УкраїнськийCleanroom wipers ay karaniwang ginagamit sa dalawang paraan: dry wiping at wet wiping, depende sa kanilang mga materyal na katangian at mga sitwasyon ng aplikasyon:
(1) Dry Wiping
Mga Katangian ng Materyal: Ang dry-wiping na mga wiper ng cleanroom ay karaniwang gawa sa mga high-density polyester o polyamide fibers. Ang mga ito ay nailalarawan sa pamamagitan ng mataas na pagsipsip ng tubig, mababang pagbuhos ng hibla, at mababang paglabas ng butil.
Mga Naaangkop na Sitwasyon: Pangunahing ginagamit upang alisin ang alikabok at mga particle mula sa mga ibabaw, na angkop para sa mga prosesong hindi nangangailangan ng nakakapinsalang paglilinis. Ang kanilang mababang paglabas ng butil ay ginagawa silang mas gustong maubos para sa mga industriya tulad ng semiconductors, photovoltaics, at LEDs.
Mga Bentahe: Ang mga dry-wiping na wiper ay hindi nangangailangan ng karagdagang mga ahente sa paglilinis habang ginagamit, na epektibong nakaiwas sa pangalawang kontaminasyon at nagpapanatili ng mataas na antas ng kalinisan sa kapaligiran.
(2) Basang Pagpupunas
Mga Katangian ng Materyal: Ang mga wet-wiping na wiper ay karaniwang ginagamot ng isang partikular na anti-static na paggamot sa ibabaw, o sumasailalim sa paglilinis ng ion at mga proseso ng paglilinis ng nalalabi pagkatapos ng dry wiping upang mabawasan ang singil sa ibabaw.
Mga Naaangkop na Sitwasyon: Pangunahing ginagamit para sa paglilinis ng mga elektronikong bahagi o optical lens na lubhang sensitibo sa static na kuryente. Dahil sa kanilang mga anti-static na katangian, maaari nilang epektibong maiwasan ang kontaminasyon ng particle na dulot ng electrostatic attraction.
Mga Bentahe: Kapag nagsasagawa ng wet wiping, ang mga cleanroom wiper ay karaniwang ginagamit na may deionized o low-ion na mga ahente sa paglilinis upang matiyak ang neutralisasyon sa panahon ng proseso ng paglilinis.
Bakit kailangang sumailalim sa "ion cleaning" o "residue cleaning" ang mga Cleanroom Wiper?
Ang paglilinis ng ion at paglilinis ng nalalabi ay mga pangunahing proseso upang matiyak ang kalidad ng mga Cleanroom Wiper, pangunahin para sa mga sumusunod na dahilan:
(1) Pag-alis ng mga Nalalabi at Additives
Pag-aalis ng mga Impurities: Sa panahon ng proseso ng pagmamanupaktura, ang ibabaw ng wiper ay maaaring may natitirang langis, additives, o iba pang maliliit na dumi mula sa production equipment. Ang proseso ng paglilinis ng ion ay maaaring epektibong alisin ang mga nalalabi na ito, na pumipigil sa mga ito na mailipat sa nalinis na ibabaw sa panahon ng aktwal na paggamit.
Pinahusay na Kalinisan: Sa pamamagitan ng paglilinis ng ion, ang mga nalalabi sa ibabaw ng wiper ay lubusang naaalis, na nagbibigay-daan dito upang matugunan ang pamantayan ng ISO 14644 na malinis na silid at matiyak na hindi ito magiging mapagkukunan ng pangalawang kontaminasyon.
(2) Pagbabawas ng Charge at Electrostatic Adsorption
Pag-neutralize ng Pagsingil: Ang proseso ng paglilinis ng ion ay neutralisahin ang singil sa ibabaw ng tela ng pagpahid. Ang mga tela na hindi ginagamot ay maaaring may positibo o negatibong mga singil, madaling makaakit ng maliliit na particle mula sa hangin o magdulot ng electrostatic adsorption sa nalinis na bagay.
Pag-iwas sa Electrostatic Contamination: Para sa mga prosesong sobrang sensitibo sa static na kuryente, gaya ng pagmamanupaktura ng integrated circuit (IC), ang mga wiping cloth na nalinis ng ion ay makabuluhang binabawasan ang panganib ng electrostatic discharge (ESD), na nagpoprotekta sa mga maselang bahagi mula sa pagkasira.
(3) Pagpapahusay ng Antibacterial at Antifungal Properties
Kalinisan at Kalinisan: Ang proseso ng paglilinis ng ion ay kadalasang sinasamahan ng mataas na temperatura na pagpapatuyo at ultraviolet sterilization. Hindi lamang nito inaalis ang mga nalalabi ngunit pinapatay din nito ang mga bacteria, fungi, at spores sa ibabaw ng tela ng pagpahid, na pumipigil sa paglaki ng mga ito habang ginagamit.
Pagtitiyak ng Kaligtasan: Para sa mga larangan tulad ng medikal, parmasyutiko, at biotechnology, ang mga tela sa pagpupunas ay dapat matugunan ang mahigpit na pamantayan sa kalinisan, at ang paglilinis ng ion ay isang kinakailangang hakbang upang makamit ang layuning ito.
